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高水質(zhì)保障：能生產(chǎn)出電阻率高達(dá) 18MΩ?cm 以上，總有機(jī)碳（TOC）含量低于 5ppb，顆粒計(jì)數(shù)每毫升不超過幾個(gè)，微生物含量極低的超純水，確保蝕刻清洗過程中不會(huì)對(duì)芯片表面造成污染和損傷。

自動(dòng)化程度高：配備**的 PLC 控制系統(tǒng)和傳感器，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和控制水質(zhì)、壓力、流量、溫度等參數(shù)，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)運(yùn)行、自動(dòng)調(diào)節(jié)、自動(dòng)保護(hù)和故障報(bào)警，減少人工操作和維護(hù)成本。

穩(wěn)定可靠運(yùn)行：采用高品質(zhì)的膜組件、泵、閥門等關(guān)鍵部件，經(jīng)過嚴(yán)格的設(shè)計(jì)和測(cè)試，設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定可靠，能夠長時(shí)間連續(xù)供應(yīng)高質(zhì)量的超純水，確保蝕刻清洗工藝的連續(xù)性和穩(wěn)定性。

靈活定制化：可根據(jù)不同的生產(chǎn)規(guī)模、水質(zhì)要求和工藝需求，進(jìn)行模塊化設(shè)計(jì)和定制化配置，方便設(shè)備的安裝、調(diào)試和擴(kuò)展，滿足不同客戶的個(gè)性化需求。

節(jié)能環(huán)保：采用節(jié)能型泵和優(yōu)化的工藝流程，降低能耗；同時(shí)，EDI 技術(shù)的應(yīng)用減少了酸堿廢水的排放，符合環(huán)保要求。